第438章 光刻机项目：另辟蹊径（2/5）

5．拼接精度：1nan＋）

6．加工晶圆尺寸：4—18英寸

7．描电镜分辨率：小于/

主要特点：

1．采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪；

2．出色的电子束偏转控制技术；

3．采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率可达

4．采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达；

5．应用领域广泛，如

微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。

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需要成就点：300点！

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沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性。

还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多。

这个EBL01号称可以制造1n下的芯片，但量产成本会比较高。

因此，当前的情况，星海集团可以从7n片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。

等竞争对手可以批量搞7n片了，星海集团再推出5n3n片。

有些设备应用，也用不着这么高端的芯片，28n片工艺足够，也是未来十年内的主流。

只是说，沐阳不打算玩什么中低端芯片。

另外，沐阳打算弄一些小于1n芯片，用于制造量子计算机和超算，这类芯片他打算自用。

接下来，沐阳确认购买EBL01技术。

十几分钟后，沐阳把EBL01技术吸收完毕。

他感觉自己对光刻机有了更深入的了解，如今就是实实在在的芯片制造顶尖专家。

买了光刻机的技术，沐阳还得购买芯片设计技术、芯片设计相关软件和相关设备。

这个芯片设计软件，他就不打算自己研发了，他在芯片软件设计这一块是弱点，靠自己研究不知道得花多长时间。

而且，目前公司形势严峻，一旦漂亮国知道自己公司在搞芯片了，会对星海集团搞各种限制。